上堂地: かみどうち
候補地: こうほち
上堂地: 20画
候補地: 28画
上堂地:
上: above 堂: public chamber 地: ground
候補地:
候: climate 補: supplement 地: ground
「列挙」と「在位」 「群衆」と「人並」 「大胆」と「極端」 「厄介」と「拘引」 「会葬」と「埋葬」
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